重磅！日本三井化学将退出三氟化氮业务

所属分类：行业新闻阅读次数：315 发布时间：2025-05-29

5 月26日，三井化学宣布决定退出三氟化氮（NF3）业务，根据公司声明，此举将于2026 年底生效，源于不断加剧的市场压力，这些压力使该业务无法为继，计划于2026 年3 月底停止，销售将于同一日历年内结束。

三井化学表示，关停的原因由于海外产品价格竞争加剧、原材料及公用工程成本上涨、维修等成本上升，该业务盈利极为困难。虽然公司采取了各种合理化和削减成本的措施，但很难确保继续经营所需的利润，因此退出三氟化氮市场的决定反映了对其与这些总体战略目标的一致性的批判性评估。

虽然三氟化氮在三井化学ICT解决方案业务部门的半导体和光学材料部门发挥着至关重要的作用，但该公司已尽一切努力实现运营合理化并实施成本削减措施，以应对盈利能力的恶化。尽管采取了这些举措，但三井化学得出的结论是，要达到长期维持三氟化氮业务所需的盈利能力水平已不再可行。尽管这一战略转变意义重大，但三井化学预计对三井化学集团的财务业绩影响很小。因此，该公司已确认其之前发布的收益预测不会发生变化。

三氟化氮：半导体制造的“隐形关键材料”。三氟化氮(NF3)在纯净状态下通常被认为是无色无味气体，在低温时呈现为不透明固体，温度上升到-216.54℃时变为透明，熔点为-206.79℃，沸点为-129.01℃，相对密度1.537(-129℃)。在高温下表现出良好的稳定性，可耐受高达627℃的温度，通常用熔盐电解法制得，也可直接氟化氨化钠或氨气而获得，采用辉光放电法使氮气和氨气直接作用也能制备三氟化氮。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅)，它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

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